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灵敏低k材料与铜兼容的去胶机
一种成功的抗蚀剂和刻蚀残渣去除胶机必须满足大批量IC制造环境中可接受的3个条件:(1)与灵敏低K介质材料的兼容性;(2)去除抗蚀剂和......
期刊
铜/低k材料
残渣去除
兼容性
去胶机
清洗
Cooper/Lowk Dielectrics
Residue Rempval Compatible
Stripp
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